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クリーンブースを局所加湿するシステムのご提案

従来の蒸気式やスプレー式の加湿器では、ブース内を局所加湿するには問題がありました。従来の問題点として

 

加湿器のそばの機械や製品に水滴が付着して錆びる。

蒸気式の場合ブース内の温度が上がり環境が悪くなる。

クリーンブースの場合換気風量が多すぎて加湿能力が足らなくなる。

 

などがあります。

 

 

また、ブース内に発熱装置がある場合、温度が上昇するため、加湿しても湿度が上がりにくいという問題もあります。 しかし、クリーンウェッター®を用いた局所加湿システムなら、

 

湿り風を送風して加湿するので機械や製品に水滴が付着しない。

吸込み空気より気化熱をうばうため、3〜5℃温度が下がった空気を送風するのでブース内の温度があがらず、よって、湿度も上がりやすくなる。

 

などの理由で理想的な環境を実現することができます。

用 途

半導体工場 液晶工場等の電子精密工場 プラスチック成型工場
医薬品製造工場 食品工場 その他の局所加湿

 

【システム図概要】

クリーンブース

クリーンウェッター®は大風量のため、複数のFFU(ファンフィルタユニット)に接続できます。また、クリーンウェッター®から吹き出す空気は完全に水蒸気の状態なのでHEPAフィルターの影響をほとんど受けずに通過できます。

 

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